适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。

应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

• 高导电性与导热性：铝的电阻率低、热导率高，制备的薄膜导电均匀性好，是电子互连、电极层的理想材料。

• 化学稳定性：常温下表面会形成致密氧化膜，耐腐蚀性较好，适配多种复杂镀膜工况。

• 性价比优势：相比金、钛等贵金属靶材，成本更低，适合大规模工业化生产。

• 可定制性强：支持不同纯度、尺寸和形状的定制，满足平面靶、旋转靶等多种溅射设备需求。